光掩膜技术研发中心

沈飞信息一直奉行技术先导的发展政策，，，公司成立之初，，国内制作大面积光掩模的技术和人才完全空白。。。。在没有任何外来技术援助的情况下，，沈飞信息科研人员在成立的第二年，，就成功研制了国内首张大面积高精度铬版掩膜版。。经过十余年的自主创新和人才培养，，形成了完全自主的核心技术和人才团队。。。。

公司于2002年成立光掩模技术研究开发中心，，，并于2007年经深圳市科技和信息局批准成立依托于沈飞信息的“深圳市光掩模技术研究开发中心”。。

目前，，沈飞信息研发中心，，正以“激活内脑、、、用活外脑”为方针，，，走产、、学、、、、研相结合的道路，，，，联合国内外相关企业和科研机构开创新技术来源，，，通过不断的自主科技创新，，，推动中国高精度大面积掩膜版制造行业赶超国际一流水平。。。